Cu-40Ni-20Cr合金在含Cl-介质中的电化学腐蚀行为研究

• 作者: 曹中秋 李凤春 边静
• 来源期刊: 沈阳师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: Cu-40Ni-20Cr合金 极化曲线 交流阻抗 腐蚀
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 页码范围: 68-71
• 页数: 4页
• 分类号: TG146.1
• 字数: 2782字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-5862.2007.01.019

摘要

利用动电位扫描法和交流阻抗技术研究了传统电弧熔炼制备的Cu-40Ni-20Cr合金在不同Cl-浓度的腐蚀介质中的电化学腐蚀行为.结果表明:合金在单一Na2SO4介质中具有较低的腐蚀电流,腐蚀速度较慢,腐蚀过程由电化学控制腐蚀,电化学阻抗谱呈单容抗弧特征.在含Cl-腐蚀介质中,随着Cl-浓度的增加,自腐蚀电位不同程度负移,腐蚀电流增大,腐蚀速度加快.Cl-浓度大于0.02mol·L-1时,出现Warburg阻抗特征,腐蚀过程由电化学控制转为扩散控制;加入Cl-后,极化电阻减小,腐蚀过程中存在一定弥散效应.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曹中秋	沈阳师范大学化学与生命科学学院	68	423	10.0	18.0
2	李凤春	沈阳师范大学化学与生命科学学院	7	28	4.0	5.0
3	边静	沈阳师范大学化学与生命科学学院	4	12	2.0	3.0