用X射线反射测量法表征双层结构中低原子序数材料的特性

• 作者: 张众 徐壵 徐敬 朱京涛 王占山 王洪昌 王蓓 王风丽 秦树基 陈玲燕
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 物理学
• 关键词: X射线衍射仪 低原子序数材料 反射率测试 薄膜
• 年，卷（期）: 2007,（12）
• 所属期刊栏目: 2007中德双边高级专家X射线光学研讨会专栏
• 页码范围: 1838-1843
• 页数: 6页
• 分类号: O434.12|O484.5
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924x.2007.12.005

摘要

介绍了用X射线反射测量术表征双层薄膜中低原子序数材料特性的方法.由于低原子序数材料的光学常数与Si基板材料的光学常数非常接近,用X射线反射法确定镀制在Si基板上的低原子序数材料膜层结构的变化十分困难,因此,提出了在镀制低原子序数材料前,首先在基板上镀制一层非常薄的金属层的方法.实验中,选用cr作为金属层材料,制备并测试了三种不同C膜镀制时间的Cr/C双层薄膜.反射率曲线拟合结果表明,C膜密度约为2.25 g/cm3,沉积速率为0.058 nm/s.