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真空科学与技术学报期刊
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173 nm真空紫外光源的研制
173 nm真空紫外光源的研制
作者:
卜忍安
左丰国
张劲涛
王文江
金晶
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
介质阻挡放电
紫外光源
单沟道放电
摘要:
非相干紫外或真空紫外光源的应用已成为众多工业部门中一项基础性和关键性的技术.本文着重介绍了介质阻挡放电产生173 nm紫外光的原理,并设计制作了利用此方法获得173 nm真空紫外光的装置.试验结果表明,用石英玻璃作介质阻挡层,Xe气体作为放电气体,能够获得峰值波长为175 nm,半高宽为12 nm的窄带大面积真空紫外光,并对其输出光谱进行分析.
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文献信息
篇名
173 nm真空紫外光源的研制
来源期刊
真空科学与技术学报
学科
物理学
关键词
介质阻挡放电
紫外光源
单沟道放电
年,卷(期)
2007,(z1)
所属期刊栏目
技术交流
研究方向
页码范围
65-67
页数
3页
分类号
O434.2
字数
1872字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1672-7126.2007.z1.017
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
张劲涛
西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室
19
54
4.0
6.0
2
王文江
西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室
14
57
4.0
7.0
3
卜忍安
西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室
17
74
4.0
8.0
4
金晶
西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室
2
2
1.0
1.0
5
左丰国
西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室
2
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研究主题发展历程
节点文献
介质阻挡放电
紫外光源
单沟道放电
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空科学与技术学报
主办单位:
中国真空学会
出版周期:
月刊
ISSN:
1672-7126
CN:
11-5177/TB
开本:
大16开
出版地:
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
邮发代号:
创刊时间:
1981
语种:
chi
出版文献量(篇)
4084
总下载数(次)
3
总被引数(次)
19905
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