掩模移动曝光系统精密定位工件台研制

• 作者: 余国彬 佟军民 胡松
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 掩模移动曝光技术 接近式曝光 x-y二维精密工件台 定位精度
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 光子束技术
• 页码范围: 18-22
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.6
• 字数: 3231字
• 语种: 中文

摘要

为满足掩模移动曝光技术制作微光学元件的要求,研制了接近式曝光系统中使用的x-y二维精密移动工件台.该工件台由x-y二维整体手动工作台子系统、x-y二维掩模精密移动台子系统和承片台子系统组成.利用一个方导轨和两对V形导轨组成的滚动导轨副实现了x向和y向精密移动的导向功能;利用驱动器、电机、光栅、细分卡、单片机构成的闭环控制系统保证了x和y向的运动精度;在气浮的作用下,利用掩模版靠平基片实现了调平功能;利用差动螺旋机构和1∶2杠杆缩小机构实现了间隙的调整功能.经检测,工件台在8 mm的工作行程范围内,沿x,y方向移动的直线性分别达到了4"和3",两个方向的正交性达到了10",运动定位精度达到了1.2 μm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡松	中国科学院光电技术研究所	93	705	12.0	24.0
2	佟军民	中国科学院光电技术研究所	9	48	4.0	6.0
8	余国彬	中国科学院光电技术研究所	22	129	7.0	10.0