钯膜上CVD法制备碳纳米管薄膜的研究

• 作者: 华缜 孙卓 曹章轶 王红光
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 碳纳米管 钯膜 化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 387-392
• 页数: 6页
• 分类号: TN873.95
• 字数: 790字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2007.04.006

摘要

采用化学气相沉积法,以乙炔为碳源,在各种钯膜上制备了碳纳米管薄膜.通过电子显微镜观察了碳管薄膜和钯膜的表面形貌.结果表明,在真空气氛下磁控溅射的钯膜上无法生长碳纳米管.对溅射的钯膜进行大气气氛下的退火处理,则可生长出稀疏的碳纳米管团聚颗粒.采用在氧气气氛下磁控溅射的钯膜作为催化剂,则可显著提高碳管的生长密度和纯度,从而获得致密均匀的碳纳米管薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙卓	华东师范大学纳米中心	39	200	8.0	11.0
2	曹章轶		1	6	1.0	1.0
3	王红光		3	16	2.0	3.0
4	华缜		3	16	2.0	3.0