镁合金微等离子体电解氧化陶瓷层生长及膜层微观形态和耐蚀性能的研究

• 作者: 李新明 潘伟 王申 苏永忠
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体电解氧化 AZ91D 陶瓷层 耐蚀性能
• 年，卷（期）: 2007,（z1）
• 页码范围: 247-251
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.453
• 字数: 3613字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-185x.2007.z1.073

摘要

通过对镁合金微等离子体电解氧化(Plasma Electrolytic Oxidation,PEO)沉积陶瓷层的生长过程、微观形貌及相组成的分析,研究探讨了镁合金微等离子体电解氧化沉积陶瓷层的生长过程与生长机理,并采用盐雾腐蚀试验对镁合金微等离子体氧化沉积陶瓷层耐蚀性进行了研究对比.实验结果表明,镁合金微等离子体电解氧化得到的陶瓷层分为3部分:外层为疏松层,表面有很多孔洞;中间层为紧密层,结构紧密;内层为过渡层,为陶瓷层与基体镁合金相互渗透的衔接部位,是经典的冶金结合;在微等离子体电解氧化处理过程中,由于在高压高温的等离子体环境下,促进了氧负离子和镁离子借助于放电通道向膜层深处的渗透和迁移,形成表面的盲孔,提高了防护膜的致密性和与镁合金基体结合的坚韧度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	苏永忠		2	13	2.0	2.0
2	潘伟	清华大学材料系	86	734	14.0	23.0
3	王申	北京理工大学材料科学与工程学院	10	236	7.0	10.0
7	李新明		5	12	3.0	3.0