面向Top-Down设计流的表面微加工掩膜推导方法

• 作者: 刘峥 江平宇
• 来源期刊: 计算机辅助设计与图形学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 微器件 掩膜推导 Top-Down 工艺模型 表面微加工
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 所属期刊栏目: 系统集成与协同设计
• 页码范围: 798-803
• 页数: 6页
• 分类号: TP391.7
• 字数: 4853字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1003-9775.2007.06.021

摘要

针对表面硅微加工,运用层模型间几何元素运算获得粗掩膜的基本数据.采用工艺约束修演得到精掩膜,解决了多层刻蚀与可加工性问题,并进行模型重构,以校正设计模型的工艺不合理性.应用协同的方法解决了设计端模块与工艺端模块的集成问题,最终得到优化的设计模型和掩膜序列.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘峥	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	2	6	2.0	2.0