PZT/LaNiO3/ LaAlO3结构制备及性能研究

• 作者: 刘劲松 张树人 张洪伟 杜善义 杨成韬 黄文
• 来源期刊: 压电与声光
• 学科: 工学
• 关键词: LaNiO3 PZT 激光脉冲沉积 射频磁控溅射 退火
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 单晶、薄膜及其他功能材料
• 页码范围: 442-444
• 页数: 3页
• 分类号: TM22
• 字数: 1986字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-2474.2007.04.023

摘要

利用激光脉冲法在LaAlO3衬底上沉积制备LaNiO3薄膜作为底电极材料,其上利用射频磁控溅射制备了PZT铁电薄膜.试验分析了LaNiO3表面结构和形貌,采用快速退火法在不同温度下对样品进行了热处理,发现在500 ℃即得到(100)取向、晶化完全的PZT薄膜,而性能测试表明,600 ℃下晶化的样品表现出非常优异的介电和铁电性能,电滞回线完全饱和而且形状对称,剩余极化和矫顽场分别为28.3 μC/cm2和54.1 kV/cm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜善义	哈尔滨工业大学材料学院	217	5341	36.0	63.0
2	黄文	电子科技大学电子薄膜与集成器件重点实验室	14	128	6.0	11.0
3	张树人	电子科技大学电子薄膜与集成器件重点实验室	187	1176	16.0	24.0
4	杨成韬	电子科技大学电子薄膜与集成器件重点实验室	67	255	8.0	12.0
5	张洪伟	电子科技大学电子薄膜与集成器件重点实验室	7	77	4.0	7.0
6	刘劲松	电子科技大学电子薄膜与集成器件重点实验室	2	3	1.0	1.0