二元光学器件光刻掩模的设计与制作

• 作者: 何显宗 孙艳军 曹子维 陈宇
• 来源期刊: 长春理工大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 二元光学器件 掩模 激光直写
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 页码范围: 40-43
• 页数: 4页
• 分类号: O438.1
• 字数: 3746字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-9870.2007.04.012

摘要

针对红外折/衍混合光学系统中八台阶二元光学器件以及套刻制作的特点,采用相位转化的方法对光刻掩模进行了结构参数的优化设计.探讨了掩模制作的工艺过程,采用激光直写方法制作出三块不同参数的掩模.同时,对关键技术环节进行了研究,并对掩摸制作误差进行了分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈宇	长春理工大学电子信息学院	65	185	8.0	11.0
2	孙艳军	长春理工大学光电工程学院	36	106	6.0	9.0
3	曹子维	长春理工大学光电工程学院	1	9	1.0	1.0
4	何显宗	长春理工大学光电工程学院	1	9	1.0	1.0