电沉积铜薄膜中的内应力与织构特征

• 作者: 姜传海 洪波 王新建
• 来源期刊: 理化检验-物理分册
• 学科: 物理学
• 关键词: 电沉积铜薄膜 X射线衍射 内应力 织构
• 年，卷（期）: 2007,（8）
• 所属期刊栏目: 试验与研究
• 页码范围: 392-394
• 页数: 3页
• 分类号: O484.2
• 字数: 1948字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4012.2007.08.005

摘要

利用X射线衍射方法分析了电沉积铜薄膜的内应力及其织构特征.结果表明,随薄膜厚度的增加,薄膜内应力增大.电沉积铜薄膜具有较强的(220)丝织构,随着铜薄膜内应力的增加,(220)丝织构增强,同时叠加有板织构的特征.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姜传海		5	53	4.0	5.0
2	王新建		2	8	2.0	2.0
3	洪波		2	8	2.0	2.0