道康宁与东京应用化学合作开发的新型硅晶注入式双层光阻获使用于记忆体晶片的制造/碳素石墨巨头西格里加速拓展亚洲新型材料市场

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篇名	道康宁与东京应用化学合作开发的新型硅晶注入式双层光阻获使用于记忆体晶片的制造/碳素石墨巨头西格里加速拓展亚洲新型材料市场
来源期刊	电子工业专用设备	学科
关键词
年，卷（期）	2007,（12）	所属期刊栏目	公司与新品介绍
研究方向		页码范围	71
页数	1页	分类号
字数	1391字	语种	中文
DOI