碳化硅表面改性和光学镜面加工的研究现状

• 作者: 刘学建 刘桂玲 江东亮 董绍明 黄政仁
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 碳化硅 表面改性 光学镜面加工
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 769-774
• 页数: 6页
• 分类号: TH751|TQ171
• 字数: 7545字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324x.2007.05.001

摘要

为了获得满足光学应用要求的碳化硅光学镜面,通常采取碳化硅表面改性和改进光学镜面加工的方法.碳化硅表面改性的主要方式是在碳化硅表面镀致密化涂层.本文介绍了在碳化硅表面化学气相沉积碳化硅和物理气相沉积硅两种碳化硅表面改性技术,并对碳化硅光学镜面加工的研究现状进行了综述.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	江东亮	中国科学院上海硅酸盐研究所结构陶瓷工程中心	66	1572	22.0	38.0
2	刘学建	中国科学院上海硅酸盐研究所结构陶瓷工程中心	54	555	16.0	20.0
3	黄政仁	中国科学院上海硅酸盐研究所结构陶瓷工程中心	56	528	14.0	21.0
4	董绍明	中国科学院上海硅酸盐研究所结构陶瓷工程中心	29	317	11.0	17.0