氧化钒薄膜的制备技术及特性研究

• 作者: 吴志明 李建峰 王涛 蒋亚东 许庆宪 魏雄邦
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化钒薄膜 磁控溅射 溅射电压
• 年，卷（期）: 2007,（z1）
• 所属期刊栏目: 光、电、磁功能材料
• 页码范围: 328-330,335
• 页数: 4页
• 分类号: TN213
• 字数: 3815字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2007.z1.099

摘要

采用直流反应磁控溅射法,通过精确控制反应溅射电压优化了氧化钒薄膜的制备工艺.对制备的氧化钒薄膜,利用四探针测试仪检测了薄膜的方阻和方阻温度系数,用X射线光电子能谱(XPS)仪和原子力显微镜(AFM)对薄膜的钒氧原子比和薄膜的微观形貌分别进行了分析和表征.实验结果表明,利用精确控制反应溅射电压法生长出的氧化钒薄膜的性能得到了进一步的提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴志明	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	78	544	13.0	17.0
2	蒋亚东	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	318	2024	18.0	25.0
3	王涛	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	55	346	11.0	14.0
4	魏雄邦	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	18	94	6.0	8.0
5	许庆宪	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	1	5	1.0	1.0
6	李建峰	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	1	5	1.0	1.0