工艺条件对Zn0.88Ni0.02Li0.10O薄膜取向、形貌和磁性的影响

• 作者: 刘珊 李剑 潘伟
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO 工艺条件 取向 形貌 磁性
• 年，卷（期）: 2007,（z1）
• 页码范围: 904-906
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 字数: 1452字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-185x.2007.z1.255

摘要

采用旋转涂覆法在普通玻璃上制备了Zn0.88Ni0.02Li0.10O薄膜,以X射线和扫描电镜作为表征手段,讨论了不同工艺参数对该薄膜取向和形貌的影响.结果表明:热处理温度和旋涂速度较高时取向增强,形貌较好.VSM磁性测量表明:在玻璃基底和硅基底旋涂的薄膜都没有出现明显的磁滞现象.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	潘伟	清华大学材料科学与工程系	86	734	14.0	23.0
2	李剑	清华大学材料科学与工程系	15	33	3.0	5.0
3	刘珊	清华大学材料科学与工程系	4	29	3.0	4.0