多弧离子镀(Ti,Al,Cr)N硬质膜的沉积工艺与力学性能

• 作者: 张钧 王闯
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: (TiAlCr)N硬质膜 多弧离子镀 显微硬度 附着力 合金靶
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 薄膜技术
• 页码范围: 16-18,34
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 2892字
• 语种: 中文

摘要

采用多弧离子镀技术并使用合金靶制备(Ti,Al,Cr)N多组元硬质膜.利用扫描电镜、X射线衍射仪对(Ti,Al,Cr)N膜层表面及断面形貌、成分、结构等进行观察测定,系统考察了沉积工艺对(Ti,Al,Cr)N膜层质量、硬度、膜/基结合力的影响,通过与TiN,(Ti,Al)N和(Ti,Cr)N等硬质膜进行比较,发现采用Ti-Al-Cr合金靶所制备的(Ti,Al,Cr)N硬质膜具有更高的硬度和更好的附着力,同时对沉积工艺有较强的适应性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张钧		49	208	8.0	12.0
2	王闯		3	15	1.0	3.0