圆柱谐振腔式MPCVD装置中氢、氩微波等离子体分布规律的数值模拟

• 作者: 吕反修 唐伟忠 孟宪明 王凤英
• 来源期刊: 真空与低温
• 学科: 物理学
• 关键词: 金刚石膜 微波等离子体 FDTD方法 数值模拟
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 157-163
• 页数: 7页
• 分类号: O53
• 字数: 4152字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7086.2008.03.007

摘要

在使用简化的等离子体放电模型的基础上,模拟了圆柱谐振腔式微波等离子体沉积室中,不同金刚石膜生长条件下微波等离子体的分布状态.在模拟中,针对纳米金刚石的生长环境,就纯氩气反应气体中,不同的输人功率、不同气体压力条件下,沉积室中形成的等离子体分布的变化规律进行了模拟,将其与一般氢气气氛下的相应模拟结果相对比.模拟所获得的结果,对微波等离子体方法沉积金刚石膜的操作环境的优化,有着一定的指导意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕反修	北京科技大学材料科学与工程学院	151	1208	18.0	24.0
2	唐伟忠	北京科技大学材料科学与工程学院	106	860	16.0	21.0
3	王凤英	北京科技大学材料科学与工程学院	7	31	4.0	5.0
4	孟宪明	北京科技大学材料科学与工程学院	5	17	2.0	4.0