基于表面等离子体的微纳光刻技术

• 作者: 严伟 周绍林 姚汉民 李展 杨勇 胡松 蒋文波 赵立新 陈旺富
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 表面等离子体 纳米光刻 近场光刻 倏逝波 局域增强
• 年，卷（期）: 2008,（12）
• 所属期刊栏目: 显微、测量、微细加工技术与设备
• 页码范围: 716-719,728
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7|TB383
• 字数: 2707字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2008.12.008

摘要

首先介绍了光刻技术的发展及其面临的挑战.随着纳米加工技术的发展,纳米结构器件必将成为未来集成电路的基础,而纳米光刻技术是纳米结构制作的基础,基于表面等离子体的纳米光刻作为一种新兴技术有望突破45 nm节点从而极大提高光刻的分辨力.介绍了表面等离子体的特性,对表面等离子体(SPs)在光刻中的应用作了回顾和分析,指出在现有的利用表面等离子体进行纳米光刻的实验装置中,或采用单层膜的超透镜(Superlens),或采用多层膜的Superlens,但都面临着如何克服近场光刻这一难题;结合作者现有课题分析了表面等离子体光刻的发展方向,认为结合多层膜的远场纳米光刻方法是表面等离子体光刻的发展方向.