射频等离子体聚合沉积六甲基二硅氧烷

• 作者: 李淳 王迎
• 来源期刊: 大连工业大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 等离子体聚合 射频放电 六甲基二硅氧烷
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 化学与材料工程
• 页码范围: 76-79
• 页数: 4页
• 分类号: O539
• 字数: 2998字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-1404.2008.01.020

摘要

为研究新颖环保的材料表面改性技术,通过射频等离子体聚合方法聚合沉积六甲基二硅氧烷(HMDSO)薄膜,并使用发射光谱、红外光谱、扫描电镜、原子力显微镜等测试方法,研究了HMDSO聚合膜的化学结构和物理形貌.实验结果表明,等离子体放电空间内的活性粒子对聚合膜的组成有直接影响.HMDSO等离子体聚合膜中含有Si-O、-CH3、-OH、CO、C-O等官能团,其表面形貌为微米颗粒堆积膜,是一种新颖的聚合物膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李淳	大连工业大学纺织轻工学院	23	94	6.0	8.0
2	王迎	大连工业大学纺织轻工学院	37	80	6.0	8.0