硅基LiNbO3薄膜的工艺研究及其性能分析

• 作者: 余凌 戴基智
• 来源期刊: 电子科技
• 学科: 工学
• 关键词: 光波导 LiNbO3薄膜 射频磁控溅射法 硅衬底
• 年，卷（期）: 2008,（10）
• 所属期刊栏目: 电子·电路
• 页码范围: 5-7,10
• 页数: 4页
• 分类号: TN304
• 字数: 2882字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-7820.2008.10.002

摘要

利用射频磁控溅射法在硅衬底上生长c轴取向LiNbO3薄膜.研究了生成高质量薄膜的实验条件和快速退火处理对薄膜结晶质量的影响.发现以600℃衬底温度制备薄膜并以650℃进行快速退火时获得了具有优异结晶质量的LiNbO3薄膜.采用扫描电镜分别对薄膜的表面、截面进行了分析.结果表明,薄膜表面光滑,晶粒均匀致密.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴基智	电子科技大学光电信息学院	53	304	10.0	14.0
2	余凌	电子科技大学光电信息学院	1	1	1.0	1.0