硅基LiNbO3薄膜的微结构研究

• 作者: 卢焕明 叶志镇 汪雷 赵炳辉 黄靖云
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: LiNbO3薄膜 透射电子显微镜 PLD技术
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 971-975
• 页数: 5页
• 分类号: TN304
• 字数: 2486字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2005.04.033

摘要

利用透射电子显微镜及X射线衍射,研究脉冲激光沉积技术(PLD)在Si(001)衬底上生长LiNbO3薄膜的微结构.结果表明,在600℃的衬底温度、30Pa的氧分压条件下,在硅片表面5nm厚的非晶氧化层上生长的薄膜,为c轴择优取向的单相LiNbO3晶体.本文还讨论了获得c轴择优取向LiNbO3薄膜的生长机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶志镇	浙江大学硅材料国家重点实验室	155	1638	21.0	35.0
2	赵炳辉	浙江大学硅材料国家重点实验室	74	719	14.0	24.0
3	汪雷	浙江大学硅材料国家重点实验室	41	646	13.0	25.0
4	黄靖云	浙江大学硅材料国家重点实验室	51	610	12.0	23.0
5	卢焕明	浙江大学硅材料国家重点实验室	17	361	9.0	17.0