衬底温度对纳米晶硅薄膜微结构的影响

• 作者: 余楚迎 刘翠青 吴燕丹 李平 林璇英 邱胜桦 陈城钊
• 来源期刊: 材料研究与应用
• 关键词: 纳米晶硅薄膜 衬底温度 微结构 沉积速率
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 可持续能源材料
• 页码范围: 475-478
• 页数: 4页
• 分类号: TM914.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-9981.2008.04.058

摘要

采用传统的射频等离子体增强化学气相沉积技术,在较高的工作气压130 Pa和较高的射频功率70 W下,在高于100 ℃低温下,以0.14 nm/s速率制备出优质的纳米晶硅薄膜.研究结果表明,衬底温度对薄膜晶化率、表面的粗糙度和沉积速率影响很大.当衬底温度高于100 ℃时,薄膜由非晶相向晶相转化.随着衬底温度升高,薄膜晶化率提高,沉积速率缓慢增加.当温度超过300 ℃时,薄膜的晶化率降低,薄膜表面的粗糙度增加,均匀性降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	余楚迎	汕头大学物理系	27	321	9.0	17.0
2	邱胜桦	韩山师范学院物理与电子工程系	13	50	4.0	6.0
3	陈城钊	韩山师范学院物理与电子工程系	23	86	5.0	8.0
4	李平	韩山师范学院物理与电子工程系	10	52	5.0	6.0
5	吴燕丹	韩山师范学院物理与电子工程系	18	72	5.0	7.0
6	刘翠青	韩山师范学院物理与电子工程系	26	67	5.0	7.0