HfO2和Al2O3混合原子层沉积反应机理的密度泛函理论研究

• 作者: 于战海 任杰 周广芬 崔永琴
• 来源期刊: 河北科技大学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 密度泛函理论 介质氧化物 原子层沉积
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 数理科学与化学
• 页码范围: 128-132
• 页数: 5页
• 分类号: O641
• 字数: 2997字
• 语种: 中文

摘要

密度泛函理论研究了用HfCl4和AI(CH3)3作为前体,HfO2和Al2O3在硅表面的原子层沉积的机理,其包括2个沉积半反应:(1)HfCl4和Al-OH*的表面反应;(2)Al(CH3)3和Hf-OH*的表面反应.计算结果表明,2个半反应过程机理相似,内禀反应坐标研究也表明2个半反应经历了相似的过渡态和副产物的消除路径.另外,升高反应温度,反应(1)中间体的解吸附作用增强,而活化能降低,反应(2)活化能基本不变.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	任杰	河北科技大学理学院	10	23	3.0	4.0
2	周广芬	河北科技大学理学院	10	139	5.0	10.0
3	崔永琴		4	6	1.0	2.0