化学气相沉积 HfO2涂层的制备及性能

• 作者: 何锐朋 朱利安 王震 叶益聪 李顺 唐宇 白书欣 国防科技大学空天科学学院
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 化学气相沉积 氧化铪涂层 热力学计算 发射率 抗热震性
• 年，卷（期）: 2024,（5）
• 页码范围: 67-75
• 页数: 9页
• 语种: 中文

摘要

采用化学气相沉积(CVD)法在难熔金属Mo表面制备厚约8μm的HfO2涂层。通过HSC Chemistry软件从热力学角度探究CVD HfO2的反应过程，分析HfO2涂层的微观形貌、择优生长情况和纳米力学性能，测试涂层与基体的结合力及抗热震性。结果表明：HfO2涂层与基体结合良好，在经历25～2000℃，100次循环热震后涂层表面未出现宏观剥落；划痕法测定的涂层附着力约23 N；在2.5～5μm波段，涂层表面平均发射率为0.48，将Mo在该波段的平均发射率提高了近5倍。