磁流变抛光磁路的结构设计及有限元仿真

• 作者: 周虎 李蓓智 杨建国 王安伟
• 来源期刊: 机械研究与应用
• 学科: 工学
• 关键词: 磁流变抛光 结构设计 磁场强度 有限元仿真
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 设计与计算
• 页码范围: 92-95
• 页数: 4页
• 分类号: TG580.692|O441
• 字数: 3159字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-4414.2008.02.038

摘要

合理的磁路结构及磁场强度是决定磁流变抛光效果的关键所在.根据磁流变抛光要求设计了电磁铁磁路结构,建立了磁路结构和磁场强度分析模型.通过静态磁路理论和标量磁位分析,获得了相应磁路结构的磁场强度分布状况,并采用有限元分析软件ANSYS进行仿真,进而验证了磁路结构对磁流变抛光工艺的适应性和有效性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周虎	东华大学机械工程学院	44	205	8.0	12.0
2	杨建国	东华大学机械工程学院	263	2002	20.0	30.0
3	李蓓智	东华大学机械工程学院	172	1267	18.0	24.0
4	王安伟	东华大学机械工程学院	1	9	1.0	1.0