用于超光滑表面加工的常压低温等离子体抛光系统设计

• 作者: 张巨帆 王波 董申
• 来源期刊: 纳米技术与精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 常压等离子体 超光滑表面 等离子体炬 电容耦合 抛光
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 精密加工
• 页码范围: 222-226
• 页数: 5页
• 分类号: TG66
• 字数: 3056字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-6030.2008.03.014

摘要

介绍了一种新型超光滑表面加工方法及其系统的设计.该方法主要基于低温等离子体化学作用,通过活性反应原子与工件表面原子间的化学反应实现原子级的材料去除,避免了表层和亚表层损伤.该常压低温等离子体抛光系统首次引入了电容耦合式射频等离子体炬,并根据装置的实际特性进行了良好的阻抗匹配.原子发射光谱分析结果表明,该系统实现了稳定的大气压等离子体放电,并有效地激发出高密度的活性反应原子.针对单晶硅片的加工试验结果,也证明了该系统可高效稳定地工作,并实现了约1.46mm3/min的材料去除速率和0.6mm(Ra)的表面粗糙度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董申	哈尔滨工业大学精密工程研究所	232	4378	35.0	50.0
2	王波	哈尔滨工业大学精密工程研究所	72	602	15.0	22.0
3	张巨帆	哈尔滨工业大学精密工程研究所	6	50	4.0	6.0