Effects of Power Density and Post Annealing Process on the Microstructure and Wettability of TiO2 Films Deposited by Mid-frequency Magnetron Reactive Sputtering

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篇名	Effects of Power Density and Post Annealing Process on the Microstructure and Wettability of TiO2 Films Deposited by Mid-frequency Magnetron Reactive Sputtering
来源期刊	材料科学技术学报（英文版）	学科	工学
关键词
年，卷（期）	2008,（2）	所属期刊栏目
研究方向		页码范围	172-178
页数	7页	分类号	TB3
字数		语种	英文
DOI	10.3321/j.issn:1005-0302.2008.02.007

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