基于AFM刻蚀的金属氧化物纳米结构构筑

• 作者: 万绍明 张兴堂 戴树玺 朱晓阳 杜祖亮 王书杰 程纲
• 来源期刊: 中国科学G辑
• 关键词: 原子力显微镜 机械刻蚀 纳米结构 Pt/Cu薄膜
• 年，卷（期）: 2008,（9）
• 页码范围: 1228-1235
• 页数: 8页
• 语种: 中文

摘要

利用原子力显微镜(AFM)接触模式机械刻蚀的方法,在双层金属Pt/Cu电极表面进行纳米结构的构筑,通过分析不同加工参数(针尖上施加的载荷大小,扫描速度,循环次数)对加工结构尺寸的影响,能得到结构尺寸任意控制的纳米图案.通过在空气中自然氧化和选择合适的参数,得到了铂-氧化铜-铂的纳米结构.用导电模式AFM和摩擦力图像对该结构进行了原位检验,发现在加工区域内出现了明显的半导体特征,对应的摩擦力图像同样直观显示出这种结构是由两种不同材料构成.结果表明采用这种特殊的AFM刻蚀方式,可作为加工新型金属氧化物半导体纳米电子器件的重要手段.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张兴堂		68	606	14.0	20.0
2	杜祖亮		128	1108	17.0	27.0
3	万绍明		10	23	2.0	4.0
4	戴树玺		28	213	8.0	14.0
5	程纲		6	30	3.0	5.0
6	朱晓阳		1	0	0.0	0.0
7	王书杰		2	8	1.0	2.0