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微通道板SiO2防离子反馈膜技术研究
微通道板SiO2防离子反馈膜技术研究
作者:
付申成
向嵘
吴奎
姜德龙
富丽晨
李野
王国政
王新
田景全
端木庆铎
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
微通道板
二氧化硅
防离子反馈膜
蒙特卡罗模拟
摘要:
本文利用射频磁控溅射方法,在微通道板输入面上成功地制备出二氧化硅防离子反馈膜.通过对二氧化硅防离子反馈膜的电子透过特性测试,给出了特性曲线.利用蒙特卡罗模拟方法对二氧化硅和三氧化二铝两种防离子反馈膜的电子透过和离子阻止能力进行了分析和比较,得出了二氧化硅薄膜比三氧化二铝薄膜对电子的透过特性稍好,而后者比前者对离子的阻止能力较优越的结论.
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篇名
微通道板SiO2防离子反馈膜技术研究
来源期刊
电子学报
学科
工学
关键词
微通道板
二氧化硅
防离子反馈膜
蒙特卡罗模拟
年,卷(期)
2008,(12)
所属期刊栏目
学术论文
研究方向
页码范围
2400-2404
页数
5页
分类号
TN304
字数
4305字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0372-2112.2008.12.024
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
李野
68
297
9.0
13.0
2
姜德龙
25
153
6.0
10.0
3
端木庆铎
56
241
8.0
12.0
4
富丽晨
9
96
5.0
9.0
5
王国政
51
208
8.0
11.0
6
付申成
15
78
5.0
8.0
7
王新
42
87
5.0
6.0
8
向嵘
12
57
5.0
6.0
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吴奎
16
102
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二级引证文献(1)
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引证文献(0)
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引证文献(0)
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研究主题发展历程
节点文献
微通道板
二氧化硅
防离子反馈膜
蒙特卡罗模拟
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子学报
主办单位:
中国电子学会
出版周期:
月刊
ISSN:
0372-2112
CN:
11-2087/TN
开本:
大16开
出版地:
北京165信箱
邮发代号:
2-891
创刊时间:
1962
语种:
chi
出版文献量(篇)
11181
总下载数(次)
11
总被引数(次)
206555
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