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单场限环结构的表面电场分布及环间距的优化
单场限环结构的表面电场分布及环间距的优化
作者:
王中文
石广源
高嵩
原文服务方:
微电子学与计算机
场限环
表面电场
击穿电压
环间距
摘要:
基于横向扩散与纵向扩散构成的冶金结边界为椭圆形这一特点,讨论单场限环结构表面电场强度的分布,给出表面电场强度、主结及环结分担电压的解析表达式.在纵向结深和掺杂浓度一定的条件下,根据临界电场击穿理论,讨论环间距的优化设计方法.单场限环结构主结环结间表面电场强度的绝对值曲线近似呈抛物线,最大电场位于主结处.随着环间距的增大,最大电场变大;随着横向扩散深度的增大,最大电场变小.环右侧最大电场也出 现在结处,随着环间距和横向扩散深度的增加,最大电场均减小.在场限环结构中,当主结和环结在表面处的最大电场强度均等于临界电场强度时,击穿电压达到最大值,此时所对应的环间距为最佳环间距.
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篇名
单场限环结构的表面电场分布及环间距的优化
来源期刊
微电子学与计算机
学科
关键词
场限环
表面电场
击穿电压
环间距
年,卷(期)
2008,(2)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
114-118
页数
5页
分类号
TN432
字数
语种
中文
DOI
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1
石广源
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2
王中文
辽宁大学物理学院
18
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6.0
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高嵩
辽宁大学物理学院
16
117
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表面电场
击穿电压
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相关学者/机构
期刊影响力
微电子学与计算机
主办单位:
中国航天科技集团公司第九研究院第七七一研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-7180
CN:
61-1123/TN
开本:
大16开
出版地:
邮发代号:
创刊时间:
1972-01-01
语种:
chi
出版文献量(篇)
9826
总下载数(次)
0
总被引数(次)
59060
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