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SiC外延层表面化学态的研究
SiC外延层表面化学态的研究
作者:
张义门
张玉明
马仲发
马格林
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
SiC
化学态
XPS
FTIR
摘要:
用高分辨X射线光电子能谱仪(XPS)和傅里叶变换红外(FTIR)光谱仪研究了SiC外延层表面的组分结构.XPS宽扫描谱,红外掠反射吸收谱及红外镜面反射谱的解析结果说明SiC外延层表面是由Si-O-Si和Si-CH2-Si聚合体构成的非晶SiCxOy:H.SiC外延层表面的化学态结构为Si(CH2)4,SiO(CH2)3,SiO2(CH3)2,SiO3(CH3),Si-Si,游离H2O,缔合OH,Si-OH,O和O2.根据化学态结构和元素电负性确定了化学态的各原子芯电子束缚能顺序,并与XPS窄扫描谱拟合结果相对比,建立了化学态与其束缚能的对应关系,进而用Si(CH2)4的实际C 1s束缚能值进行校正,确定了各化学态的束缚能.结果发现,除了SiCxOy(x=1,2,3,4,x+y=4)的Si 2p束缚能彼此不同外,其X 1s和O 1s彼此也不相同,其中SiO2(CH3)2和SiO3(CH3)的C 1s束缚能与CHm和C-O中C 1s的相近,对此从化学态结构,元素电负性和邻位效应进行了解释.
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文献信息
篇名
SiC外延层表面化学态的研究
来源期刊
物理学报
学科
关键词
SiC
化学态
XPS
FTIR
年,卷(期)
2008,(7)
所属期刊栏目
原子和分子物理学
研究方向
页码范围
4119-4124
页数
6页
分类号
字数
5151字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
马格林
宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室西安电子科技大学微电子学院
2
3
1.0
1.0
2
张玉明
宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室西安电子科技大学微电子学院
9
23
3.0
4.0
3
张义门
宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室西安电子科技大学微电子学院
10
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3.0
4.0
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马仲发
宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室西安电子科技大学微电子学院
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节点文献
SiC
化学态
XPS
FTIR
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
主办单位:
中国物理学会
中国科学院物理研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1000-3290
CN:
11-1958/O4
开本:
大16开
出版地:
北京603信箱
邮发代号:
2-425
创刊时间:
1933
语种:
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:
the National Natural Science Foundation of China
官方网址:
http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:
青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:
数理科学
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