Si基太阳电池用SiNx:H薄膜的研究进展

• 作者: 周春兰 唐煜 王文静 贾晓昀
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 太阳电池 SiNx H 钝化 减反射
• 年，卷（期）: 2008,（z1）
• 所属期刊栏目: 能源材料
• 页码范围: 247-250
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.2
• 字数: 4341字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2008.z1.077

摘要

SiNx:H薄膜因为具有良好的减反射性质和钝化作用,在晶体硅太阳电池(单晶硅、多晶硅)的研究和生产中得到越来越广泛的应用.介绍了SiNx:H薄膜在硅基太阳电池中的减反射和钝化作用,主要制备方法等研究现状,以及面临的问题和今后的研究趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周春兰	中国科学院电工研究所	19	245	8.0	15.0
2	王文静	中国科学院电工研究所	32	266	8.0	16.0
3	唐煜	中国科学院电工研究所	3	79	2.0	3.0
4	贾晓昀	北京交通大学光电子技术研究所	1	0	0.0	0.0