径迹刻蚀模板法制备铜纳米线

• 作者: 刘浪 王剑华 陆威 陈添才 顾琳
• 来源期刊: 南方金属
• 学科: 化学
• 关键词: 铜纳米线 模板 电化学沉积
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 所属期刊栏目: 综述评论
• 页码范围: 5-7,17
• 页数: 4页
• 分类号: O614.121
• 字数: 3005字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-9700.2009.04.002

摘要

用径迹刻蚀的聚碳酸酯为模板,采用电化学沉积法制备了铜纳米线,通过选用不同孔径的模板,得到了铜纳米线阵列,其直径和长度分别取决于聚碳酸酯模板孔洞的直径和厚度.利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)等手段对铜纳米线的形貌、晶体结构特征和成分进行了表征.铜纳米线为多晶结构,大部分成分为铜,少部分为氧化铜.添加(NH4)2SO420 gL-1和二乙基三胺(DETA)80 mLL-1能减小铜晶粒尺寸.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王剑华	昆明理工大学新材料制备与加工重点实验室	53	381	9.0	17.0
2	陈添才	昆明理工大学新材料制备与加工重点实验室	3	21	3.0	3.0
3	顾琳	昆明理工大学材料与冶金工程学院	7	29	4.0	5.0
4	刘浪	昆明理工大学新材料制备与加工重点实验室	4	21	3.0	4.0
5	陆威	昆明理工大学材料与冶金工程学院	2	10	2.0	2.0