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新型纳米薄膜钪钨阴极的研究
新型纳米薄膜钪钨阴极的研究
作者:
李季
王萍
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
纳米薄膜钪钨阴极
纳米级钪钨粉
大电流密度
摘要:
介绍了一种新型的纳米薄膜钪钨阴极,该阴极在1000℃(亮度温度)可以提供至少150 A/cm2的拐点电流密度.同时作者指出:含钪阴极的发射机制倾向于热电子发射机制还是"场助热电子发射"机制主要取决于阴极表面发射小岛的形成和维持.
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关键词热度
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文献信息
篇名
新型纳米薄膜钪钨阴极的研究
来源期刊
真空电子技术
学科
物理学
关键词
纳米薄膜钪钨阴极
纳米级钪钨粉
大电流密度
年,卷(期)
2009,(3)
所属期刊栏目
研究与设计
研究方向
页码范围
17-22
页数
6页
分类号
O462
字数
4306字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1002-8935.2009.03.005
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
李季
23
100
5.0
8.0
2
王萍
1
3
1.0
1.0
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
引文网络
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2018(1)
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二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
纳米薄膜钪钨阴极
纳米级钪钨粉
大电流密度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空电子技术
主办单位:
北京真空电子技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-8935
CN:
11-2485/TN
开本:
大16开
出版地:
北京749信箱7分箱
邮发代号:
创刊时间:
1959
语种:
chi
出版文献量(篇)
2372
总下载数(次)
7
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