改性含钪薄膜阴极的研究

• 作者: 李季 王舒墨 王辉
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 物理学
• 关键词: Sc6 WO12 钪 阴极 溅射 覆膜
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 所属期刊栏目: 研究与设计
• 页码范围: 8-12
• 分类号: O462
• 字数: 2592字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2012.03.003

摘要

采用Sc6 WO12 +W代替传统的Sc2WO3+W材料制备溅射靶,利用三极直流溅射方法制备含钪薄膜阴极.这种方法不需要在覆膜过程中通入氧气或采取其它的复杂氧化工艺,不仅简化了操作也提高了阴极制备的稳定性和一致性.本文研究了这种阴极的发射特性和功函数分布情况.这种阴极在1000℃时能提供86 A/cm2的发射电流密度,表现出良好的发射性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李季		23	100	5.0	8.0
2	王辉		11	42	3.0	5.0
3	王舒墨		2	5	2.0	2.0