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低介电损耗AlN陶瓷及BN-AlN基陶瓷材料研究
低介电损耗AlN陶瓷及BN-AlN基陶瓷材料研究
作者:
张巨先
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
AlN陶瓷
BN-AlN基复相陶瓷
低介电损耗
化学工艺
摘要:
介电损耗最小值为9.3×10-4的AlN陶瓷材料.
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内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
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(/年)
文献信息
篇名
低介电损耗AlN陶瓷及BN-AlN基陶瓷材料研究
来源期刊
真空电子技术
学科
工学
关键词
AlN陶瓷
BN-AlN基复相陶瓷
低介电损耗
化学工艺
年,卷(期)
2009,(4)
所属期刊栏目
电子陶瓷、陶瓷-金属封接与真空开关管用陶瓷管壳应用专辑
研究方向
页码范围
50-53,68
页数
5页
分类号
TQ174
字数
3749字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1002-8935.2009.04.014
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
张巨先
28
335
9.0
17.0
传播情况
被引次数趋势
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(/年)
引文网络
引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
AlN陶瓷
BN-AlN基复相陶瓷
低介电损耗
化学工艺
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空电子技术
主办单位:
北京真空电子技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-8935
CN:
11-2485/TN
开本:
大16开
出版地:
北京749信箱7分箱
邮发代号:
创刊时间:
1959
语种:
chi
出版文献量(篇)
2372
总下载数(次)
7
总被引数(次)
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