工艺参数对钛/瓷界面组织及性能的影响

• 作者: 孙大千 朱松 段珍珍 殷世强 邱小明
• 来源期刊: 吉林大学学报(工学版)
• 学科: 医学
• 关键词: 材料合成与加工工艺 钛 烤瓷 界面 微观组织 力学性能
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 页码范围: 66-71
• 页数: 6页
• 分类号: TG425.2|R783.1
• 语种: 中文

摘要

应用扫描电镜、能谱、X射线衍射及电子拉伸试验机对钛/瓷界面的微观组织和力学性能进行了研究.结果表明,钛/瓷界面由钛表面氧化膜层和瓷与氧化膜层作用形成的反应层组成,烤瓷工艺参数直接影响钛/瓷界面结构、结合强度和断裂位置.烤瓷温度对钛/瓷界面结合强度影响较大,烤瓷温度为800℃、烤瓷时间为1 min时,钛/瓷界面三点弯曲结合强度为24.7MPa.随着烤瓷温度的提高和烤瓷时间的延长,钛表面氧化膜层和反应层变宽,最终影响钛/瓷界面的结合强度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邱小明		51	434	12.0	18.0
2	孙大千		61	522	13.0	18.0
3	朱松		81	299	10.0	12.0
4	段珍珍		3	7	2.0	2.0
5	殷世强		21	292	10.0	17.0