MoS2/Zr复合薄膜的制备工艺研究

• 作者: 宋文龙 张辉 邓建新
• 来源期刊: 郑州大学学报（工学版）
• 学科: 工学
• 关键词: MoS2软涂层 中频磁控溅射 多弧离子镀 MoS2/Zr复合薄膜 性能
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 页码范围: 124-128
• 页数: 5页
• 分类号: TB383
• 字数: 3548字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-6833.2009.01.028

摘要

采用中频磁控溅射及多弧离子镀相结合的复合镀膜工艺,在硬质合金YT14基体上制备了MoS2/Zr复合薄膜.采用扫描电子显微镜(SEM)考察了复合薄膜表面及截面的形貌,利用能谱分析(EDX)薄膜的成分组成.研究了沉积温度、基体负偏压及Zr电流等沉积工艺参数对复合薄膜的结合力、显微硬度、厚度等性能的影响.结果表明:沉积工艺参数对MoS2/Zr复合薄膜的性能影响很大,合理选择沉积工艺参数能够明显提高和改善复合薄膜的性能,并分析了沉积参数对性能的影响机理.在本实验条件下,最佳沉积工艺参数为:沉积温度200 ℃,基体偏压180 V,Zr电流30 A,制备的MoS2/Zr复合薄膜结构致密,其结合力约为60 N,厚度约为2.4 μm,显微硬度约为HV900.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邓建新	山东大学机械工程学院	164	2357	25.0	39.0
2	宋文龙	山东大学机械工程学院	13	103	6.0	10.0
3	张辉	山东大学机械工程学院	106	886	17.0	25.0