MoS2-Zr复合薄膜的结构及摩擦特性研究

• 作者: 尚自河 张庆远 王洪祥
• 来源期刊: 现代制造工程
• 学科: 工学
• 关键词: 中频磁控溅射 MoS2-Zr复合薄膜 结构 摩擦特性
• 年，卷（期）: 2008,（10）
• 所属期刊栏目: 材料研究/试验
• 页码范围: 112-115
• 页数: 4页
• 分类号: TH171
• 字数: 3113字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-3133.2008.10.033

摘要

采用中频磁控溅射技术及多弧离子镀相结合的复合镀膜工艺,在硬质合金YT14基体上制备了MoS2-Zr复合薄膜.观察了MoS2-Zr复合薄膜表面及截面形貌,测试薄膜的厚度、结合力和显微硬度,进行摩擦磨损试验,并分析薄膜的摩擦磨损机理.结果表明,制备的MoS2-Zr复合薄膜结构致密,性能明显优于MoS2薄膜;厚度由2.0μm提高到2.5μm,结合力由28N提高到60N,显微硬度由280HV提高到900HV.MoS2-Zr复合薄膜的摩擦特性明显优于MoS2薄膜.MoS2薄膜磨损初始阶段摩擦因数只有0.06,在磨程15m后摩擦因数升到0.4.而MoS2-Zr复合薄膜的摩擦因数磨损初始阶段可达0.08,直到磨程60m摩擦因数达到0.4.薄膜的摩擦磨损过程主要是薄膜的剥落和转移的过程,复合薄膜由于结合力和硬度的提高,能够延缓薄膜的剥落及转移,提高薄膜的摩擦特性,延长薄膜的减摩润滑时间.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张庆远		3	10	2.0	3.0
2	尚自河		11	39	4.0	6.0
3	王洪祥		2	1	1.0	1.0