CMP综合终点检测研究

• 作者: 刘多勤 周国安 徐佃柳 詹阳
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光 电机电流终点检测 光学终点检测 温度信号 抛光垫
• 年，卷（期）: 2009,（6）
• 所属期刊栏目: 显微、测量、微细加工技术与设备
• 页码范围: 371-374,382
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.2
• 字数: 1622字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2009.06.010

摘要

在对电机电流终点检测、光学终点检测以及抛光垫温度检测三种终点检测技术的检测原理、特点及其装置分析讨论的基础上,对终点检测硬件电路的设计效果进行了验证.采用STRASBAUGH的Nvision软件进行移植,设置其增益、漂移量、数字过滤器的频率和类型.以w作为抛光对象,以TiN作为阻挡层,优化了工艺参数菜单设置并实施抛光,在实时形成信号曲线的基础上,由主机综合三种终点检测信号的情况,判断出精准的终点位置,为CMP抛光终点的监测和抛光垫的修整和更换提供科学的依据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周国安	中国电子科技集团公司第四十五研究所	13	43	4.0	6.0
2	詹阳	中国电子科技集团公司第四十五研究所	8	24	3.0	4.0
3	刘多勤	中国电子科技集团公司第四十五研究所	1	6	1.0	1.0
4	徐佃柳	中国电子科技集团公司第四十五研究所	1	6	1.0	1.0