退火工艺对Nd掺杂Ca0.4Sr0.6Bi4Ti4O15薄膜的性能影响

• 作者: 张伟
• 来源期刊: 山东建筑大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: C0.4S0.6NT薄膜 Nd掺杂 Sol-Gel法 取向 性能
• 年，卷（期）: 2009,（6）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 539-542
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2923字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-7644.2009.06.011

摘要

利用Sol-Gel法、快速退火工艺在Pt(100)/Ti/SiO2/Si衬底上成功制备了Nd掺杂的Ca0.4Sr0.6Bi4Ti4O15(C0.4S0.6NT)铁电薄膜.分别研究了退火工艺中热解温度、退火温度对C0.4S0.6NT薄膜取向及铁电性能的影响,并探讨了C0.4S0.6NT薄膜取向生长的微观机制.XRD衍射分析表明:350℃热分解温度得到的薄膜I(200)/I(119)达到最大;退火温度达到700℃,薄膜中的Bi2Ti2O7相全部转化成铋层状钙钛矿相;P-E电学性能测试显示:退火温度高有助于提高薄膜的剩余极化(Pr);350℃热分解温度,750℃退火温度得到高(200)取向的薄膜,铁电性能较好,Pr 和Ec分别为14.2μC/cm2和84.5kV/cm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张伟	山东英才学院建筑工程学院	36	73	5.0	7.0