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摘要:
以SiO2和聚苯乙烯(polystyrene,PS)微球为内核,采用液相沉淀工艺制各了具有包覆结构的CeO2/SiO2和CeO2/PS复合颗粒.利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、场发射扫描电子显微镜、X射线光电子能谱仪、动态光散射仪和zata电位测定等手段对所制各样品进行了表征.将所制备的CeO2/SiO2和CeO2/PS复合颗粒用于硅晶片热氧化层的化学机械抛光,用原子力显微镜(atomic force microscope,AFM)观察抛光表面的微观形貌、测量表面粗糙度.结果表明:所制备的CeO2/SiO2和CeO2/PS复合颗粒呈球形,粒径在150~200nm,CeO2纳米颗粒在SiO2和PS微球内核表面包覆均匀.包覆的CeO2颗粒与si02内核之间形成了化学键结合.CeO2颗粒的包覆显著的改变了复合颗粒的表面电性.AFM测量结果表明:经CeO2/SiO2和CeO2/PS复合磨料抛光后的硅热氧化片表面在5μm×5μm范围内粗糙度值分别为0.292nm和0.180nm.
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关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 包覆型CeO2/SiO2和CeO2/聚苯乙烯复合磨料的制备及其化学机械抛光性能
来源期刊 硅酸盐学报 学科 工学
关键词 氧化铈/氧化硅复合磨料 氧化铈/聚苯乙烯复合磨料 包覆 化学机械抛光
年,卷(期) 2009,(11) 所属期刊栏目 研究论文,中文
研究方向 页码范围 1880-1885
页数 6页 分类号 TB383
字数 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0454-5648.2009.11.016
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈志刚 江苏大学材料科学与工程学院 90 1299 21.0 30.0
5 陈杨 江苏大学材料科学与工程学院 10 230 8.0 10.0
9 隆仁伟 江苏工业学院材料科学与工程学院 5 42 5.0 5.0
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氧化铈/氧化硅复合磨料
氧化铈/聚苯乙烯复合磨料
包覆
化学机械抛光
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