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紫外平面刻划光栅杂散光数值分析及测试
紫外平面刻划光栅杂散光数值分析及测试
作者:
于海利
吴娜
巴音贺希格
张善文
李燕
齐向东
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
衍射光栅
杂散光
数值分析
摘要:
杂散光是光栅的重要技术指标,它直接影响光栅的信噪比,紫外波段的杂散光对光谱分析尤为不利.为了考察平面刻划光栅用于光谱仪器时产生的杂散光,采用标量衍射理论数值分析了杂散光产生的原因.数值模拟结果表明,紫外平面刻划光栅刻槽周期随机误差以及刻槽深度随机误差是杂散光的主要来源,而光栅杂散光对光栅表面小尺度随机粗糙度并不敏感.提出了平面光栅光谱仪出射狭缝相对宽度的概念,数值分析了仪器出射狭缝高度及出射狭缝相对宽度与杂散光强度的关系,从而分别为在光栅制作工艺中从根源上降低光栅杂散光以及在光栅应用过程中从使用方法上降低光栅杂散光提供了理论依据.最后,为了与采用滤光片法测得的光栅杂散光实验值进行比较,给出了理论求解杂散光总强度的求和公式,并对4个不同波长的杂散光进行了多次测量.结果表明,当刻槽周期随机误差、刻槽深度随机误差和表面随机粗糙度分别取0.8 nm、 0.5 nm和1.2 nm时,理论值和实验值的相对误差可控制在13%左右.
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杂散光抑制性能
手机辐射杂散测试及分析
手机
电磁兼容
辐射杂散
测试
分析
光栅刻划刀架系统的运行精度对光栅光谱性能的影响
刻划刀架
刻划光栅
刻线弯曲
刻线位置误差
光栅光谱
内容分析
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期刊文献
内容分析
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相关文献总数
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文献信息
篇名
紫外平面刻划光栅杂散光数值分析及测试
来源期刊
光学精密工程
学科
工学
关键词
衍射光栅
杂散光
数值分析
年,卷(期)
2009,(8)
所属期刊栏目
现代应用光学
研究方向
页码范围
1783-1789
页数
7页
分类号
O436.1|TH744.1
字数
4201字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1004-924X.2009.08.001
五维指标
传播情况
被引次数趋势
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杂散光
数值分析
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学精密工程
主办单位:
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
中国仪器仪表学会
出版周期:
月刊
ISSN:
1004-924X
CN:
22-1198/TH
开本:
大16开
出版地:
长春市东南湖大路3888号
邮发代号:
12-166
创刊时间:
1959
语种:
chi
出版文献量(篇)
6867
总下载数(次)
10
总被引数(次)
98767
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:
the National Natural Science Foundation of China
官方网址:
http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:
青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:
数理科学
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