ZnS上HfON保护膜及增透膜系的制备和性能研究

• 作者: 余怀之 刘伟 刘嘉禾 张树玉 杨海 苏小平 袁果 闫兰琴 黎建明
• 来源期刊: 激光与红外
• 学科: 工学
• 关键词: 硫化锌 氮氧化铪保护膜 增透膜 硬度
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 光学材料器件与薄膜
• 页码范围: 531-533
• 页数: 3页
• 分类号: TN213|TB43
• 字数: 1002字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5078.2009.05.021

摘要

用氮氧化铪薄膜作为CVDZnS衬底的保护膜、由YbF<,3>和ZnS组成的增透膜系分别在CVDZnS的两面制备了保护膜和增透膜,研究了镀膜前后CVDZnS在8～12 μm波段的光学性能,单面镀制增透膜之后CVDZnS在此波段的平均透过率由未镀膜前的74%提高到了82%,峰值透过率大于83.5%.在CVDZnS上镀制HfON保护膜后,其8～12 μm波段透过率没有明显的降低,同时硬度测试表明HfON薄膜的硬度约为11.6 GPa,远大干衬底CVDZnS的硬度.胶带实验和泡水试验表明,制备的保护膜和增透膜均和衬底有很好的附着力.