离子注入掺杂锐钛矿TiO2薄膜的光学性能

• 作者: 向霞 居勇峰 常丹 祖小涛 陈猛
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: TiO2薄膜 锐钛矿 氮掺杂 离子注入 吸收光谱 射频磁控溅射
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 粒子束技术
• 页码范围: 775-778
• 页数: 4页
• 分类号: TQ174.4|O433.4
• 字数: 3353字
• 语种: 中文

摘要

在玻璃基体上,采用射频磁控溅射方法在不同的基体温度下制备了TiO2薄膜,然后在薄膜中注入注量分别为5×1016, 1×1017和5×1017/cm2的N离子以制备N掺杂的TiO2薄膜.X射线衍射结果表明:制备出的TiO2薄膜为锐钛矿型.X射线光电子能谱研究结果表明:注入的N离子与TiO2晶粒相互作用,形成了含氮的TiOxN2-x化合物,从而改变了TiO2薄膜的吸收边;随N离子注量增加,吸收边移动更明显;同时,由于氮离子注入产生的辐照缺陷使TiO2薄膜在紫外和可见光区的吸收也明显增强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	居勇峰	电子科技大学应用物理系	6	21	3.0	4.0
2	祖小涛	电子科技大学应用物理系	111	627	12.0	17.0
3	向霞	电子科技大学应用物理系	27	116	6.0	9.0
4	陈猛	电子科技大学应用物理系	5	38	4.0	5.0
5	常丹	电子科技大学应用物理系	1	4	1.0	1.0