电离层拟合方法及路径参数量化分析

• 作者: 闫照文 韩轶峰
• 来源期刊: 北京航空航天大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电离层 连接层 等离子体密度 射线追踪 参数估计
• 年，卷（期）: 2009,（9）
• 页码范围: 1113-1116
• 页数: 4页
• 分类号: TM15
• 语种: 中文

摘要

针对多层电离层,采用反抛物层作为连接层来描述电离层之间区域的电子密度分布.以电子密度和其相对于高度的一阶偏导数连续为依据,拟合出连接层的临界频率、半厚度和底高等电离层参数.将电离层的准抛物模型和连接层的反抛物模型中计算出来的等离子频率代入Appleton-Hartree公式和Snell定理,结合射线的几何结构完成多层电离层中的射线追踪,同时计算群路径、相路径和传输距离这3种重要的路径参数.分析当给定频率时,路径参数与入射角之间的关系,群路径、相路径与传输距离之间的关系,频率对路径参数之间变化关系的影响;同时分析了给定入射角时,路径参数与射线工作频率之间关系和入射角对于路径参数之间变化关系的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	闫照文		11	67	5.0	8.0
2	韩轶峰		2	3	1.0	1.0