氢化锂薄膜的应用研究

• 作者: 唐永建 段浩 邢丕峰 雷洁红
• 来源期刊: 材料开发与应用
• 学科: 工学
• 关键词: 氢化物锂薄膜 脉冲激光沉积技术(PLD) 多层膜间隔层 惯性约束聚变(ICF)
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 95-97
• 分类号: TB31
• 字数: 2083字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-1545.2010.05.025

摘要

阐述了氢化锂薄膜在惯性约束聚变中的应用背景,介绍了多层膜间隔层和惯性约束聚变中靶丸燃料的研究现状及存在的问题,展望了利用脉冲激光沉积技术制备氢化锂薄膜用作多层膜间隔层和靶丸燃料的发展方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐永建	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	281	2334	24.0	31.0
2	邢丕峰	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	59	303	9.0	14.0
3	雷洁红	西华师范大学物理与电子信息学院	24	42	3.0	5.0
7	段浩	绵阳师范学院化学与化学工程学院	8	38	4.0	6.0