连续离子层吸附反应(SILAR)法制备纳米Cu2O薄膜

• 作者: 熊玮 胡飞 陈远相
• 来源期刊: 中国陶瓷工业
• 学科: 工学
• 关键词: 连续离子层吸附反应法 氧化亚铜薄膜 纳米颗粒
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 35-38
• 分类号: TQ174.75
• 字数: 3629字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-2874.2010.05.009

摘要

采用低温液相薄膜制备工艺--连续离子层吸附反应(SILAR)法,在玻璃衬底上制备了纳米Cu2O薄膜,考察了工艺参数对薄膜质量和薄膜表面形貌的影响,对薄膜的生长速率与反应溶液浓度、反应温度以及循环次数的关系进行了研究和分析.结果表明,采用连续离子层吸附反应(SILAR)法有利于制备高质量的纳米Cu2O薄膜,连续离子层吸附反应(SILAR)法可以有效去掉疏松的离子,每次循环吸附反应都能使紧密吸附的离子转化成致密的纳米Cu2O薄膜,这样既有利于纳米Cu2O颗粒的生成,同时减少了污染和降低了成本.试验表明,制备纳米Cu2O薄膜的最佳反应温度为70℃,最佳反应溶液浓度均为1 mol/L,纳米Cu2O薄膜的膜厚随着循环次数的增加而增加,循环40次可制得厚度为0.38μm的薄膜.经XRD和SEM测试,所制备的薄膜纯度高,表面平整且致密,Cu2O颗粒大小约为100 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡飞	景德镇陶瓷学院材料科学与工程学院	28	129	7.0	10.0
2	陈远相	景德镇陶瓷学院材料科学与工程学院	1	1	1.0	1.0
3	熊玮	景德镇陶瓷学院材料科学与工程学院	1	1	1.0	1.0