激光修调对CrSi薄膜电阻稳定性的影响

• 作者: 向培胜 罗山 胡剑书
• 来源期刊: 压电与声光
• 学科: 工学
• 关键词: CrSi电阻 激光修调 温度系数
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 821-822,829
• 分类号: TN804
• 字数: 1227字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-2474.2010.05.030

摘要

该文分析了激光修调对CrSi薄膜电阻稳定性的影响,获得了对CrSi薄膜电阻进行激光修调的优化方法.实验结果表明,150 ℃储存48 h,可完全消除激光修调带来的影响,使CrSi薄膜电阻温度系数降到了20×10-6/℃,提高了CrSi薄膜电阻网络的稳定性,从而为研制高性能模拟集成电路打下坚实的基础.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	罗山		2	3	1.0	1.0
5	向培胜	驻重庆气体压缩机厂军事代表室	1	2	1.0	1.0
6	胡剑书	驻重庆气体压缩机厂军事代表室	1	2	1.0	1.0