大气压下冷等离子弧制备SiO_x涂层超疏水表面

• 作者: 任兆杏 刘福平 周振 陈强
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 化学
• 关键词: 冷等离子体弧 超疏水表面 大气压 SiO_x薄膜
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 68-71
• 页数: 4页
• 分类号: O539|O646.9
• 字数: 2363字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2010.01.14

摘要

采用冷等离子弧在大气压下以六甲基二硅氧烷为单体制备SiO_x超疏水薄膜,研究不同工艺参数对薄膜的结构性能影响.通过傅里叶红外光谱(FTIR)对SiO_x薄膜进行了结构分析、通过原子力显微镜(AFM)和数字光学显微镜分析了SiO_x薄膜的表面形貌、通过接触角仪测试了所沉积的SiO_x薄膜亲/疏水性.在较为详细的研究冷等离子弧制备工艺参数对薄膜的影响后,如基片高度、单体输入量、沉积时间等,我们得到,在基片高度为10cm、单体输入量为90mL·min-1、沉积时间为2min时,可以制备出接触角为160°以上的SiO_x超疏水表面.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈强	北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室	125	542	10.0	17.0
2	刘福平	北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室	75	370	10.0	16.0
3	周振	北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室	4	6	2.0	2.0
4	任兆杏		1	3	1.0	1.0