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摘要:
对两种不同清洗方法的工作原理、清洗效果和适用范围等特点进行了分析.不同的工艺应采用不同的清洗方法才能获得最佳效果.介绍了硅片清洗机的清洗工艺和腐蚀工艺.指出了硅片清洗工艺的发展趋势.
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文献信息
篇名 光伏太阳能硅片清洗工艺的探索
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 硅片清洗 清洗工艺 表面清洗
年,卷(期) 2010,(6) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 37-39
页数 分类号 TN305.97
字数 2663字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-4507.2010.06.008
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王莉 中国电子科技集团公司第二研究所 15 50 4.0 6.0
2 杜虎明 中国电子科技集团公司第二研究所 7 10 2.0 3.0
3 马斌 中国电子科技集团公司第二研究所 9 6 2.0 2.0
4 牛进毅 中国电子科技集团公司第二研究所 6 33 4.0 5.0
传播情况
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硅片清洗
清洗工艺
表面清洗
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电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
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